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云、邊緣計算正在推動高端高性能封裝的采用與高性能半導體封裝清洗介紹

發布日期:2023-07-07 發布者:合明科技 瀏覽次數:5466

一、為什么我們需要高性能封裝?


隨著前端節點越來越小,設計成本變得越來越重要。高級封裝 (AP) 解決方案通過降低成本、提高系統性能、降低延遲、增加帶寬和電源效率來幫助解決這些問題。
 高端性能封裝平臺是 UHD FO、嵌入式 Si 橋、Si 中介層、3D 堆棧存儲器和 3DSoC。
 數據中心網絡、高性能計算和自動駕駛汽車正在推動高端性能封裝的采用,以及從技術角度來看的演變。今天的趨勢是在云、邊緣計算和設備級別擁有更大的計算資源。因此,不斷增長的需求正在推動高端高性能封裝的采用。


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二、高性能封裝市場規模?


 據Yole預測,到 2027 年,高性能封裝市場收入預計將達到78.7億美元,高于 2021 年的27.4億美元,2021-2027 年的復合年增長率為 19%。到 2027 年,UHD FO、HBM、3DS 和有源 Si 中介層將占總市場份額的 50% 以上,是市場增長的最大貢獻者。嵌入式 Si 橋、3D NAND 堆棧、3D SoC 和 HBM 是增長最快的四大貢獻者,每個貢獻者的 CAGR 都大于 20%。
 由于電信和基礎設施以及移動和消費終端市場中高端性能應用程序和人工智能的快速增長,這種演變是可能的。高端性能封裝代表了一個相對較小的業務,但對半導體行業產生了巨大的影響,因為它是幫助滿足比摩爾要求的關鍵解決方案之一。


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三、高性能半導體封裝清洗

半導體芯片封裝過程中通常會使用助焊劑和錫膏等作為焊接輔料,這些輔料在焊接過程或多或少都會有部分殘留物,還包括制程中沾污的指印、汗液、角質和塵埃等污染物。同時,半導體組裝了鋁、銅、鉑、鎳等敏感金屬和油墨字符、電磁碳膜和特殊標簽等相當脆弱的功能材料。這些敏感金屬和特殊功能材料對清洗劑的兼容性提出了很高的要求。

合明半水基清洗工藝解決方案,可在清洗芯片封裝基板的焊接殘留物和污垢的同時去除金屬界面高溫氧化膜,保障下一道工序的金屬界面結合強度;對芯片半導體基材、金屬材料擁有優良的材料兼容性,清洗后易于用水漂洗干凈。

歡迎使用合明科技半水基清洗劑W3300!

以上便是芯片封裝基板清洗,封裝基板的主要結構和生產技術的介紹,希望可以幫到您!


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以上為本公司一些經驗的累積,因工藝問題內容廣泛,沒有面面俱到,只對常見問題作分析,隨著電子產業的不斷更新換代,新的工藝問題也不斷出現,本公司自成立以來不斷的追求產品的創新,做到與時俱進,熟悉各種生產復雜工藝,能為各種客戶提供全方位的工藝、設備、材料的清洗解決方案支持。

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