Chip on Substrate（CoS）封裝

在完成硅介質層中段模塊以后，它便能被貼合上封裝基板，形成異構性 2.5D 封裝。Amkor 在2009 年開始研發 2.5D 封裝，在 2011 年 Xilinx 推出行業首個 2.5D FPGA Vertext-V7 時，參與其中負責封裝的就是 Amkor。Amkor 已經開發出兩種主要的2.5D 封裝平臺，基板上芯片 (CoS) 和晶圓上芯片(CoW)。CoS 于 2014 年開發完成，并導入大規模生產。CoW 平臺為新的升級結構制程，在 2018 年開始大規模生產。

CoS 制程首先將介質層貼合至基板，然后將多個芯片貼合至介質層，形成異構性封裝（見圖 5）。先完成制程中的 RDL 之后，再將芯片貼裝至 RDL 介質層，這樣的制程有個特別的名詞— RDL First 或Die Last。這樣的優點在于可以做中段試驗，它能標記、淘汰不合格的半成品介質層，避免其再被封裝而浪費其它昂貴的芯片，實現更高的良率。封裝尺寸越大，遭遇的挑戰也越艱巨，Amkor 已在該領域開展各種基礎研究，擁有大量生產數據庫，而且進入大規模量產。

其他類型的封裝

Chip on Wafer （CoW）封裝

CoW 是從 CoS 提升結構的下一代技術，它采用硅晶圓作為基板的晶圓級封裝技術。相較之下，CoW 首先將芯片貼合到介質層，然后晶圓級塑封，最后再將它們連接到封裝基板上（見圖 6）。此技術的優點是：能提供更強壯的物理結構，以滿足更大芯片尺寸和更大介質層尺寸的封裝技術要求。Amkor已完成各種測試驗證，并導入大規模量產。

先進封裝基板的助焊劑清洗劑:

半導體芯片封裝過程中通常會使用助焊劑和錫膏等作為焊接輔料，這些輔料在焊接過程或多或少都會有部分殘留物，還包括制程中沾污的指印、汗液、角質和塵埃等污染物。同時，半導體組裝了鋁、銅、鉑、鎳等敏感金屬和油墨字符、電磁碳膜和特殊標簽等相當脆弱的功能材料。這些敏感金屬和特殊功能材料對清洗劑的兼容性提出了很高的要求。

合明半水基清洗工藝解決方案，可在清洗芯片封裝基板的焊接殘留物和污垢的同時去除金屬界面高溫氧化膜，保障下一道工序的金屬界面結合強度；對芯片半導體基材、金屬材料擁有優良的材料兼容性，清洗后易于用水漂洗干凈。

歡迎使用合明科技中性水基清洗劑W3200!

以上便是芯片封裝基板清洗,封裝基板的主要結構和生產技術的介紹，希望可以幫到您！