因為專業
所以領先
該路線圖以邏輯疊加技術為特色,將邏輯疊加技術安裝在基板上,將 2nm(SF2)芯片與 4nm(SF4X)芯片組合在一起,兩者都安裝在另一塊基板上。這基本上是 2.5D 封裝上的 3D-IC,也就是前面提到的 3.5D 或 5.5D 概念。Song 表示,該代工廠將從 2027 年開始在 SF2P 上堆疊 SF1.4。這種方法特別吸引人的地方在于散熱的可能性。通過將邏輯與其他功能分開,熱量可以通過基板或五個暴露面中的任何一個從堆疊的芯片中排出。
與此同時,將利用其 Foveros Direct 3D 將邏輯堆疊在邏輯上,無論是面對面還是面對面。
圖 6:英特爾的 Foveros Direct 3D
其他創新工藝和封裝技術的到位為更廣泛的競爭選擇打開了大門。與過去由大型芯片制造商、設備供應商和 EDA 公司定義芯片路線圖不同,小芯片世界為最終客戶提供了做出這些決策的工具。這在很大程度上是由于可以放入封裝中的功能數量與可以放入 SoC 光罩限制內的功能數量不同??梢愿鶕枰交虼怪睌U展封裝,在某些情況下,它們可以通過垂直布局規劃來提高性能。
圖 7:路線圖和創新
與此同時,一直在研究一種更好的方法來為密集排列的晶體管供電,隨著晶體管密度和金屬層數量的增加,這個問題一直存在。過去,電源是從芯片頂部向下輸送的,但在最先進的節點上出現了兩個問題。一是實際上為每個晶體管提供足夠的功率的挑戰。二是噪聲,它可能來自電源、基板或電磁干擾。如果沒有適當的屏蔽——由于電介質和電線越來越薄,在每個新節點上屏蔽變得越來越困難——噪聲會影響信號完整性。
先進封裝芯片清洗
合明科技研發的水基清洗劑配合合適的清洗工藝能為芯片封裝前提供潔凈的界面條件。
水基清洗的工藝和設備配置選擇對清洗精密器件尤其重要,一旦選定,就會作為一個長期的使用和運行方式。水基清洗劑必須滿足清洗、漂洗、干燥的全工藝流程。
污染物有多種,可歸納為離子型和非離子型兩大類。離子型污染物接觸到環境中的濕氣,通電后發生電化學遷移,形成樹枝狀結構體,造成低電阻通路,破壞了電路板功能。非離子型污染物可穿透PC B 的絕緣層,在PCB板表層下生長枝晶。除了離子型和非離子型污染物,還有粒狀污染物,例如焊料球、焊料槽內的浮點、灰塵、塵埃等,這些污染物會導致焊點質量降低、焊接時焊點拉尖、產生氣孔、短路等等多種不良現象。
這么多污染物,到底哪些才是最備受關注的呢?助焊劑或錫膏普遍應用于回流焊和波峰焊工藝中,它們主要由溶劑、潤濕劑、樹脂、緩蝕劑和活化劑等多種成分,焊后必然存在熱改性生成物,這些物質在所有污染物中的占據主導,從產品失效情況來而言,焊后殘余物是影響產品質量最主要的影響因素,離子型殘留物易引起電遷移使絕緣電阻下降,松香樹脂殘留物易吸附灰塵或雜質引發接觸電阻增大,嚴重者導致開路失效,因此焊后必須進行嚴格的清洗,才能保障電路板的質量。
合明科技運用自身原創的產品技術,滿足芯片封裝工藝制程清洗的高難度技術要求,打破國外廠商在行業中的壟斷地位,為芯片封裝材料全面國產自主提供強有力的支持。
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